순천향대, 차세대 전자소자 핵심 공정기술 산업 이전

2025-12-14

ALD 기반 선택성장 공정… 진공기술 전문기업에 1억 원 규모 기술이전

[충청타임즈] 충남 아산 순천향대학교가 차세대 전자소자 제조 핵심기술의 산업 이전을 통해 연구 성과의 실용화와 상용화에 속도를 내고 있다.

순천향대학교(총장 송병국) 산학협력단은 지난 1일 진공기술 전문기업 ㈜아스트로텍과 ‘In-situ 진공장비 선택성장 공정 기술’에 대한 기술이전 협약을 체결했다고 밝혔다. 이번 계약에 따라 아스트로텍은 정액 기술료 1억 원을 순천향대에 지급한다.

이전된 기술은 원자층증착(ALD) 공정을 기반으로 특정 영역에만 박막을 정밀하게 선택 성장시키는 공정기술이다. 초미세 패터닝이 요구되는 차세대 반도체와 디스플레이 소자 제조에 핵심적으로 활용될 수 있으며, 기판 표면 상태를 정교하게 제어해 선택비를 획기적으로 높인 것이 특징이다. 기존 리소그래피 공정 대비 공정 복잡성과 비용을 줄일 수 있어 산업적 활용 가치가 높다는 평가를 받고 있다.

이번 기술이전은 박환열 순천향대 디스플레이신소재공학과 교수가 개발한 특허 및 연구성과의 사업화를 위한 것이다. 순천향대 산학협력단과 RISE 사업단은 실용화 검증(PoC)을 비롯해 국가기술거래플랫폼 연계 시험·인증 지원, 비즈니스 모델 설계, 상용화 로드맵 수립, 정부 지원 R&BD 기획 등을 단계적으로 지원하며 산업 적용 기반을 마련했다.

박환열 교수는 “선택적 증착 기반의 초박막 성장 공정은 전자소자 제조 전반에 폭넓게 적용할 수 있는 기술”이라며 “초미세 패터닝 구현이 가능해 향후 국내 반도체와 디스플레이 산업 경쟁력 강화에 기여할 것”이라고 말했다.

기술을 이전받은 ㈜아스트로텍은 2022년 설립된 진공기술 전문기업으로, 초고진공 장비와 부품 개발을 통해 방사광 가속기 등 국가 연구시설과 산업 현장에서 기술 역량을 축적해 왔다. 회사 측은 이번 기술이전을 계기로 차세대 전자소자 제조 공정 분야로 사업 영역을 본격 확대할 계획이다.

/아산 정재신기자 jjs3580@cctimes.kr

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