켐트로닉스, 美 고객사에 PR 원료 공급…“세정 이어 EUV 공정으로 확대”

켐트로닉스는 미국 화학소재 기업에 반도체 포토레지스트(PR) 핵심 원료를 공급한다고 5일 밝혔다.

회사는 초고순도 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(PGMEA)를 양산, 미국 고객사에 납품을 시작했다고 설명했다. 영업 비밀을 이유로 고객사를 공개하지 않았지만, 미국에 본사를 둔 글로벌 화학소재 업체로 전해졌다.

PR 원료 최종 고객사는 미 현지 팹을 운영 중인 반도체 제조사다. 미 화학소재 업체가 켐트로닉스 PGMEA로 PR을 만들면 반도체 위탁생산(파운드리) 공장으로 공급되는 구조다.

PGMEA는 반도체에 회로 패턴을 새기는 데 활용되는 PR 원료다. PR 성능에 따라 반도체 초미세 회로를 구현하는 극자외선(EUV) 노광 공정의 정밀도가 좌우되는 만큼 원재료인 PGMEA도 중요성이 높다.

특히 PGMEA는 불순물이 섞이면 오염으로 이어져 반도체 수율 저하를 야기하기 때문에 순도가 높아야 한다. 켐트로닉스는 PGMEA 금속 함유량을 1조개 중 10개 이하(10ppt)로 제어, 순도 비율이 99.999%를 의미하는 5N 초고순도를 구현했다고 설명했다.

켐트로닉스는 지난 9월 국내 소재 업체에 PGMEA를 공급한 데 이어 미국 기업으로 고객사를 넓혔다. 적용 대상도 국내 반도체 팹에서 글로벌로 확장했다.

회사는 또 세정용 PGMEA에서 EUV 노광 공정용 소재로 품목도 달라졌다는 점에 의미가 있다고 강조했다. EUV 노광 공정용 PR에 활용되는 PGMEA는 세정보다 순도가 높고 고도의 공정 안정성을 요구하는데, 글로벌 고객사의 까다로운 기술 요건을 충족했다는 설명이다.

회사 관계자는 “기존 세정 중심 용매 공급을 넘어 EUV 공정용 PR 소재 진입이 본격화됐다”며 “초고순도 용매 기술을 기반으로 글로벌 PR 기업과 협력을 강화하고, PR 소재 포트폴리오를 확대할 계획”이라고 말했다.

이호길 기자 eagles@etnews.com